La description
Le four tubulaire CVD vertical (carbure de silicium) adopte du méthyltrichlorosilane (MTS) comme source d’air pour fabriquer un revêtement résistant à l’oxydation superficielle du matériau et modifier les caractères du matériau de la matrice.
Caractéristiques techniques
- La technologie de contrôle la plus avancée est adoptée pour contrôler le débit et la pression de MTS, réalisant un flux d’air de dépôt stable et une faible plage de fluctuation de pression.
- Le four de dépôt chimique en phase vapeur sous vide utilise une chambre de dépôt spécialement conçue, qui assure un bon effet d'étanchéité et une grande performance de protection contre la contamination.
- Plusieurs canaux de dépôt assurent l'uniformité du champ d'écoulement, un coin mort sans dépôt et une grande surface de dépôt.
- Il comporte un traitement contre les gaz de queue hautement corrosifs, les gaz inflammables et explosifs, les poussières solides et les matériaux collants à bas point de fusion au cours du processus de dépôt.
- La nouvelle unité de vide anti-corrosion de conception assure de longues heures de travail continu et une courte durée de maintenance.
